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半导体晶圆缺陷检测设备

发布时间:2026-04-23 13:41:45  浏览次数: 146

行业痛点

晶圆在光刻、蚀刻和切割生产过程中会出现各种缺陷,需要检测设备找出不良缺陷,传统进口AOI检测设备价格昂贵,效率低,并且和工厂内部系统兼容性差,无法进行有效的数据互联,缺陷成因难以定位。


解决方案

方案由高精度大理石平台、大面阵高速相机、机械手自动上下料机构、检测模块和缺陷追溯模块组成。可以检测出晶圆在光刻、蚀刻和切割等工序中出现的各种缺陷和尺寸信息。


优势亮点

1、平面及运动精度均达微米级 ,可检测最小缺陷低至0.5um;

2、检测速度最高可达10WPH;

3、明暗场及不同波长的光源自由组合,不同倍率的镜头自动切换;

4、数十种AI智能检测算法搭配强大算力;

5、配备离线核查站 、支持CAD建档、支持正背面检测 ,兼容SiC和Si材质。


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IGBT晶圆


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MASK (掩膜版)


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COW (chip on wafer)


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COT (chip on tap)


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